北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于量测设备的照射模块”的专利，公开号CN121219640A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，公开了一种照射配置模块，包括：辐射调制设备，能够操作以在有源区上接收光谱色散的宽带输入辐射，并且选择性地衍射所述光谱色散的宽带输入辐射的衍射部分，以获取包括期望衍射辐射和干扰衍射辐射的光谱配置辐射；以及至少一个光谱滤波器，能够操作以基本上阻挡所述光谱配置辐射的光谱部分，所述光谱部分包括所述干扰衍射辐射。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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