ASML高管：早就听闻中国在研发光刻机，但迄今为止，他们没有一款产品问世

在半导体行业，有一句话几乎成了标准答案——中国也在搞光刻机，但离真正的产品还很远。这一次，说这句话的人，是ASML高管。

在最新一次财报会议上，ASML首席财务官直言不讳地表示：“我们早就听说中国企业在研发光刻机，但到目前为止，他们还没有拿出任何真正意义上的产品。”这句话迅速被西方媒体引用、放大，也被一些人当成了最终结论。仿佛只要ASML点头，中国才能算开始；只要ASML否定，中国就永远在起跑线上。

但事实，真的如此吗？

先把话说明白一点。ASML高管说的这句话，在字面上并非完全错误：中国，确实还没有对标ASML EUV的成熟商用产品。但问题在于他们刻意忽略了过程，只强调终点。在西方话语体系里，没有EUV = 没有光刻机；没有对标ASML = 等于零。这是一种非常典型的技术霸权逻辑。

ASML高管们心里其实很清楚一件事：真正危险的，不是中国今天有没有EUV，而是中国已经被彻底逼上了“必须自己造”的道路。美国对中国的芯片制裁，不是减速器，而是点火器。过去，中国大量购买ASML设备，用钱换时间；现在，时间被掐断了，只能用命换技术。

结果是什么？进口光刻机的钱，开始转向研发投入；被卡脖子的环节，开始系统性拆解；买设备的逻辑，转向建体系。这恰恰是ASML前CEO温宁克反复警告美国政府的原因：“一旦你不卖给中国，他们就一定会自己做。”

中国光刻机，真的一无所有吗？如果只盯着EUV，答案是“没有”。但如果看整个光刻体系，情况完全不同。

光刻机不是一台机器，而是一个系统工程。光刻机=光源+投影物镜+双工件台+控制系统+软件算法+超高精度制造体系。ASML花了30多年，才把这些拼成一台EUV。而中国做的事情是：把这张被锁死的拼图，一块一块拆开重来。

西方经常嘲讽一句话：中国光刻机卡在90nm很多年了。但真实情况是：上海微电子（SMEE）已形成成熟的i-line、KrF光刻机量产能力，ArF干式、ArF浸没式持续推进，在先进制程之外，封装、功率器件、显示面板、MEMS等已实现大规模国产替代。这不是“实验室玩具”，而是真实进产线的设备。只不过，它们不在最耀眼的EUV舞台中央。

中国在光刻机光源、精密运动平台、控制软件上的进展；国产供应链在局部指标上已达到国际一流水平；一批“去ASML化”的工程师，正在形成完整技术梯队。这些东西，短期看不到终点，但长期一旦贯通，就是不可逆的趋势。

今天的ASML，确实无可替代。全球唯一EUV供应商、最复杂工业系统之一、技术壁垒极高。但请注意一个事实：ASML并不是天生的王者。当年日本、美国，同样认为：光刻机是“我们永远的护城河”，后来者不可能追上。结果呢？ASML，正是当年的“后来者”。

中国光刻机，确实很难，但已经不再是不可能。说一句实话，更容易赢得尊重：EUV，中国现在造不出来；距离ASML，确实还有很长的路。但同样真实的是： 中国已经走上了正确但艰难的路径，光刻机不再是“单点幻想”，而是体系工程，时间，正在从“西方优势”，变成“最大变量”。ASML高管说：“中国还没有一款产品问世。”但历史往往证明真正改变格局的，从来不是第一句话，而是后面那几十年沉默的积累。

你可以轻视中国今天的光刻机，但别低估一个被逼到墙角的产业。西方的傲慢，源自过去的成功；中国的执拗，来自现实的封锁。也许十年内，ASML依然站在顶峰；但有一点已经无法改变：中国，不会再把命门，交到别人手里。而这，才是ASML高管真正焦虑，却不愿明说的地方。

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