荷兰技术顾问：只要封锁中国一项光源技术，他们所有光刻机计划将永远无法实现

当年荷兰人 是这么地断言的：“只要不给中国最先进的光源技术，中国所有的光刻机计划就永远无法点亮！”

但是 谁说技术封锁能轻易阻挡一个国家追梦的脚步？

在被封锁前，ASML 这家公司几乎把国际光刻机市场一手掌控，尤其是最先进的 EUV （极紫外）光刻机，用一句话概括：没有高效 EUV 光源，就等于没有制造高端芯片的大门钥匙。 然而事实，正在被中国的工程师一点一点打脸。

先讲最核心的科技逻辑：光刻机是芯片制造的曝光器，类似于胶片时代的投影仪；光源（特别是 EUV 光源）就像灯泡：不够亮、不够稳定、没有足够能量，整台机器就等于摆设。先进节点工艺（如 7nm、5nm、3nm 甚至更先进）必须使用波长只有 13.5nm 的极紫外光，而这只有极高功率、超稳定光源才能输出。

荷兰 ASML 的 EUV 光刻机的核心技术之一，就是它那套高达百万瓦级别、利用激光激发锡等离子体产生 EUV 光的能量转换系统，全球仅 ASML + 美国、德国合作伙伴掌握这种封装级别的技术。

因此，只要这项光源技术被封锁：中国就没法获得先进光刻机，也就无法制造未来 AI、手机、超级计算时代都离不开的芯片。这似乎是全球共识，也是西方封锁政策设计的一部分。

今年，中国科学院上海光机所科研团队就在极紫外光源技术上取得了令人惊讶的进展：他们搭建了可产生 EUV 光的实验光源平台，最高能量转换效率达到了 3.42％，不仅超越瑞士和荷兰实验室的公开纪录，还接近部分国际前沿水平。

要知道，历史上 ASML 的商业化光源需要高效率 CO₂ 激光驱动等离子体系统，而这类系统几乎是被西方垄断的先进装备。中国团队创新使用“固体激光器驱动方法”，取得了国际同行都为之侧目的结果。

这意味着中国的科研人员正在自己解决“点亮芯片生产灯泡”的根本问题。 即使国外断供核心光源设备，中国也能靠自主创新开出新的光源技术路线。

被封锁之后，中国没有选择坐以待毙，而是同时推进多个技术路径：学术界主攻更接近工业化的 LPP（激光激发等离子体）EUV 光源；行业内部还试验了一种不同的 LDP（放电等离子体）光源方式，据说效率更高、结构更简单，有可能成为商业化突破路线之一。

这种多路线、开路创新的策略，是中国科研体系一贯的特色：不被单一路线绑架，不急于复制别人现有模式，更愿意探索“野路子”中可能出现的飞跃。结果是：即使荷兰专家认为中国永远做不出来；即使出口封锁频频升级；中国科研人员实际上已经在多个重要子技术上开始获得突破。

荷兰、美国等对中国的封锁并非没有影响：确实，最先进的商业 EUV 光刻机目前仍未能进入中国市场。中国公司也仍未量产全功能 EUV 光刻机。 但反过来看看：中国芯片设备行业过去依赖进口，现在正被逼着自我突破；科研团队正努力追赶并在光源效率上达到国际前沿；一些公开报道甚至提到中国可能在 2028-2030 年之前完成自主 EUV 机的试产。

换句话说：封锁不是拦路虎，而成了逼着中国科技自立自强的催化剂。中国芯片产业的故事，还远没有结束。而那些曾经的傲慢预测，终将成为技术发展路上的一个注脚 —— 被现实狠狠打脸的注脚。

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