航鑫光电 FILMTHICK - C10 膜厚检测仪:半导体及多领域薄膜测量的技术先锋
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技术原理与测量方式
光学薄膜测量设备的光谱测量方式主要有椭圆偏振和垂直反射两种
椭圆偏振测量方式
光源发出的光经起偏器和光学聚焦系统,以特定角度入射圆片,经表面膜层和硅衬底反射后,由光谱仪接收。通过对膜厚和薄膜光学常数等变量进行回归迭代逼近,使计算光谱与实测光谱吻合,最终迭代值即为所测薄膜的厚度和光学常数。
特点:
高精度测量薄膜厚度和光学常数
适用于各类薄膜测量
在测量复杂多层膜和超薄薄膜时优势明显
提供更精确的光学常数信息
仅能得到圆片表面的垂直反射光谱,不包含偏振光的位相变化信息,需与事先在标准裸圆片上测得的反射光谱对比,才能得到样品的垂直反射率。
性能参数:
灵敏度低于椭圆偏振式测量
主要用于较厚薄膜和单层膜的厚度测量
测量速度较快
操作相对简单
用于测量薄膜方块电阻率
通过反推公式计算薄膜厚度
满足多样化测量需求
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核心技术参数与优势光学系统
采用进口卤钨灯光源
使用寿命超10000小时
非接触式无损测量
可测反射率/颜色/膜厚等参数
配备OPTICAFILMTEST专业软件
集成FFT傅里叶法/极值法/拟合法
开放型材料数据库
实时显示干涉/FFT波谱/膜厚趋势
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行业应用场景半导体芯片制造
提升芯片性能和良率
严格把控薄膜厚度
提高芯片稳定性和可靠性
优化显示效果
减少色差和闪烁现象
提升光学性能/清晰度/色彩还原度
确保镀膜质量
提高光学元件性能
生物薄膜厚度测量
支持医疗设备制造技术
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