5.1亿！江苏半导体设备企业被收购

芯东西（公众号：aichip001）
作者 ZeR0
编辑 漠影

芯东西11月11日报道，11月6日，江苏苏州激光直写光刻机上市公司苏大维格发公告宣布，拟以自有或自筹资金5.1亿元收购江苏半导体光掩模缺陷检测设备企业常州维普51%股权。

交易完成后，常州维普成为公司控股子公司，纳入苏大维格合并报表范围。常州维普（标的公司）主要财务指标占苏大维格主要财务指标比例如下：

现阶段，常州维普产品研发及客户交付、验收工作开展顺利，在手订单充足，其创始股东承诺2025年度到2027年度累计净利润（以扣除非经常性损益前后孰低原则确定）合计不低于2.4亿元。

本次交易不构成《上市公司重大资产重组管理办法》规定的重大资产重组，不构成重组上市，无需取得有关部门批准。

苏大维格成立于2001年10月，在高端智能装备领域研发、生产和销售各类激光直写光刻机和纳米压印光刻机，其中以激光直写光刻机为主。激光直写光刻机是用于生产制造光掩模的核心设备之一，主要为美国应用材料和瑞典迈康尼等美欧企业所垄断，国产化率极低。

需注意的是，激光直写光刻机与用于芯片制造的光刻机不是一个概念，主要用在光电子材料与器件、新型显示等微纳加工行业。

常州维普是江苏省专精特新“小巨人”企业，是国内极少数在半导体光掩模缺陷检测设备领域已实现规模化量产的企业，技术、产品和核心算法系正向自研开发，拥有自主知识产权，主要核心零部件实现了国产化和自主可控，产品已进入国内头部晶圆厂和国内外头部掩膜版厂商的量产线。

其主营业务为光掩模（又称掩模、（光刻）掩膜版，光罩等）缺陷检测设备（收入主要构成）和晶圆缺陷检测设备的研发、生产和销售，两者均属于半导体量检测的核心设备。

该公司最近一年又一期的合并口径主要财务指标如下：

现阶段，常州维普业务快速发展，订单增长较快，并保持了较好的经营性现金流、较强的资产流动性和较高的盈利能力。

2025年1至10月，常州维普实现营收超过1.14亿元，实现净利润超过5100万元，经营活动现金流超过5500万元（以上数据由常州维普提供）。

截至2025年10月31日，常州维普在手订单约2.5亿元，合同负债超过1亿元（客户按一定比例预付的合同价款），账上货币资金及银行理财约1.4亿元，有息负债约800万元。

根据容诚会计师事务所（特殊普通合伙）出具的《盈利预测审核报告》，常州维普2025年全年营收预测数为1.37亿元，归母净利润预测数为6057.80万元。

常州维普部分股东深创新资本、红土一号与苏大维格持股5%以上股东转型升级基金皆为深圳市创新投资集团有限公司控制的下属企业，根据《深圳证券交易所创业板股票上市规则》等相关规定，本次部分交易对方深创新资本、红土一号为公司关联方，本次交易构成关联交易。

本次交易前常州维普的股权结构如下：

交易后其股权结构如下：

截至11月11日午间休市，苏大维格最新市值为83亿元。

苏大维格公告显示，根据相关报告，2023年全球半导体设备销售额约1083亿美元，预计2025将增长至约1255亿美元。以销售区域看，中国大陆占比逐年提升至35%左右；从销售类型看，量检测设备占比约为11%，且国产化率尚不足5%。

2023年，量检测设备全球市场规模约为128亿美元，其中掩膜版缺陷检测设备份额仅次于明场设备，约18.10亿美元，预计2025年将达到22亿美元以上。

量检测设备是集成电路制造核心设备之一，是保证芯片良率的关键。掩膜版系芯片生产的母版，关系晶圆良率，相关缺陷检测设备需达到100%缺陷抓取率，研发难度大，进入壁垒高、客户粘性强。

在全球掩膜版检测设备市场，美国科磊（KLA）、日本Lasertec等占据了全球绝大部分的市场份额，亚太地区是最大的区域市场，国内掩膜版检测设备市场也主要由上述企业垄断。

根据相关报告，光掩模缺陷检测设备是前道国产化率最低的环节之一，国产率不足3%，国产替代尚在早期，市场空间巨大。

常州维普是国内极少数在半导体光掩模缺陷检测设备领域已实现规模化量产的企业，设备产品已实现了对下游主要半导体掩膜版生产厂商（包括晶圆厂自建配套工厂和独立第三方掩模厂商）的覆盖。

苏大维格一直致力于积极拓展激光直写光刻机在半导体光掩模制造领域的量产应用和国产替代，潜在客户群体和常州维普现有客户体系基本重叠，收购常州维普，利用其现有客户资源，有利于减少苏大维格的客户开发成本和产品验证周期。

此外，苏大维格在光学系统、精密运动控制平台上有较深的技术积累，常州维普则在核心算法、软件系统、电气电控系统等方面有技术优势和量产经验。本次交易后，双方优势互补，有利于增强苏大维格在直写光刻领域的研发实力，提高产品的迭代速度，提升设备的竞争力。

本次收购完成后，有利于双方发挥各自在激光直写光刻和掩模缺陷检测领域的优势。苏大维格可借助常州维普客户资源及量产经验，加快推进激光直写光刻机在半导体光掩模制造和先进封装领域的量产应用，还可以助力常州维普在先进制程光学系统方面实现突破。

双方通过技术与业务的协同合作，有利于实现激光直写光刻机与光掩模缺陷检测设备的不断迭代升级，为苏大维格培育新的利润增长点。