打破垄断！首台国产FEM2000激光直写曝光设备交付 助力“中国屏”高端化

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近日，江苏影速集成电路装备股份有限公司（以下简称“影速集成”）宣布，公司自主研发的FEM2000激光直写曝光设备正式出货至北京某半导体显示产业龙头企业。这一突破标志着国产高端显示装备在打破日韩技术垄断、保障供应链安全方面迈出关键一步，为“中国屏”的自主可控注入核心动能。

资料显示，影速集成成立于2014年，是中国领先的集成电路专用设备制造商。公司专注于激光直写光刻技术及半导体前道检测设备的研发与产业化，其核心技术优势体现在自主研发的双台面激光直接成像设备，该技术突破了国外在高端PCB及载板制造领域的长期垄断，实现了微米级加工精度与高效量产能力的完美结合。在半导体前道检测领域，影速集成创新开发的晶圆缺陷检测设备具备纳米级缺陷识别能力，有效解决了28纳米及以下制程的晶圆表面缺陷检测难题。通过将激光直写光刻技术与智能检测系统深度融合，影速集成已形成覆盖芯片制造、先进封装及微纳器件制造的全流程解决方案，为我国集成电路产业链自主可控提供了关键设备支撑。此外，公司的高速双台面激光直接成像曝光设备及DEM 4000直写光刻机，先后两次被认定为江苏省首台（套）重大装备，技术实力获权威认可。

核心技术自主化，破解“卡脖子”困局

长期以来，面板制造上游的曝边、打码设备被日韩企业垄断，掩模版等核心材料依赖进口，制约了中国显示产业的升级步伐。影速集成FEM系列设备通过100%自主研发的核心部件，实现了从G6到G10.5代线全尺寸激光直写曝光技术的国产化替代，彻底摆脱对海外设备的依赖，筑牢产业链安全防线。

影速集成的技术优势直击行业痛点，FEM2000凭借其高精度、高灵活性的特点，精准契合面板行业对“小批量、多型号”研发的需求。

公司表示，其技术优势主要体现在三个方面，一、微米级精度：采用激光直写技术，可在超薄玻璃基板上实现微米级线宽刻画，满足Micro LED、OLED等新一代显示技术的工艺要求；二、开放式工艺接口：支持快速适配不同尺寸与材料，缩短客户研发周期；三、全流程数据可控：版图设计与曝光参数由国内设备闭环处理，杜绝技术泄露风险。

赋能高端制造，重塑产业格局

资料显示，FEM系列设备已深入覆盖UV-Glass基板处理、FMM/CMM金属掩模版制造、大尺寸掩模版量产等核心场景。其动态聚焦系统与多场同步曝光技术，突破了传统光刻的精度限制，为65英寸至110英寸超大尺寸面板的良率提升提供支撑。目前，影速集成已与多家国内面板头部企业展开合作，推动国产显示技术向“更精密、更高效”进阶。影速集成此次交付的首台FEM2000设备，不仅是国产高端装备的里程碑，更彰显了中国在全球显示产业竞争中从“跟跑”到“并跑”的战略升级。未来，随着国产设备在面板制造链的深度渗透，“中国屏”有望进一步掌握全球市场话语权。

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点击报名：！（11月5日-7日）