北京
金融界2025年8月4日消息，国家知识产权局信息显示，上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“显示器件生产方法及对应的显示器件”的专利，公开号CN120417721A，申请日期为2024年01月。
专利摘要显示，本发明公开了一种显示器件生产方法及对应的显示器件，生产方法包括如下步骤：S1、在显示器件上蒸镀空穴注入层；S2、在空穴注入层上使用第一掩膜版蒸镀红色像素空穴传输层，红色像素空穴传输层蒸镀在第一掩膜版上的第一通孔内；S3、使用第二掩膜版蒸镀红色像素空穴传输层和绿色像素空穴传输层，红色像素空穴传输层蒸镀在第二掩膜版上的第二通孔内；S4、在空穴注入层、红色像素空穴传输层和绿色像素空穴传输层上蒸镀发光层。本发明的显示器件生产方法及对应的显示器件，使用一块掩膜版同时蒸镀红色像素空穴传输层和绿色像素空穴传输层，使得各掩膜版上材料积累速率基本一致，减少了掩膜版用量和拆装停机时间，提高了生产效率。
天眼查资料显示，上海和辉光电股份有限公司，成立于2012年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1380943.7625万人民币。通过天眼查大数据分析，上海和辉光电股份有限公司参与招投标项目272次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息1903条，此外企业还拥有行政许可498个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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