北方华创发布
12英寸先进低压化学气相硅沉积立式炉设备
北方华创发布 SICRIUS PY302 系列 12 英寸低压化学气相硅沉积立式炉设备,面向高端逻辑与存储芯片领域,攻克高深宽比结构填充、高平坦度薄膜生长及兼容低温工艺三大瓶颈。
该设备通过低压反应腔等技术实现无缺陷填充与高台阶覆盖率,以全石英腔室等设计将膜厚均匀性和粗糙度控制在原子级,还集成多种先进工艺功能,降低器件缺陷率。
目前,设备已通过多家领先晶圆厂验证,实现规模量产并获重复订单。作为平台型企业,北方华创持续聚焦核心装备技术迭代,助力中国半导体产业发展。
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