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金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，恒美光电股份有限公司申请一项名为“一种高穿透性偏光片及其制备方法”的专利，公开号CN120214998A，申请日期为2023年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高穿透性偏光片及其制备方法，其中高穿透性偏光片作为下片使用，在最外层具有低折射率primer层，从上至下依次包括：低折射primer层、上保护膜层、PVA偏光子膜、下保护膜层、PSA胶涂层、离型膜。本发明设计的高穿透性偏光片具有更高的透光性，能够降低显示面板能耗，提升显示画面亮度，对比度等效果。
天眼查资料显示，恒美光电股份有限公司，成立于2014年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本325278万人民币。通过天眼查大数据分析，恒美光电股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目59次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息105条，此外企业还拥有行政许可28个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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