北京
金融界2025年6月27日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷薄膜技术有限公司取得一项名为“一种运放共模抑制比的测量电路”的专利，授权公告号CN223038120U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型提供一种运放共模抑制比的测量电路，包括：待测运放DUT和辅助测量运放AMP，待测运放DUT的引脚2通过电阻R2接地，引脚3分别通过电阻R1接地和通过电阻R6连接辅助测量运放AMP的输出端，引脚4通过开关S2连接电源VEE1和VEE2，引脚4还通过电阻R4和电阻R3连接引脚7，引脚7还通过开关S1连接电源VAA1和VAA2，引脚6通过电阻R5连接辅助测量运放AMP的负向输入端，电阻R3和电阻R4的公共端连接AMP的正向输入端，AMP的负向输入端还通过电容C1连接辅助测量运放AMP的输出端。本实用新型所用到的电阻电容，精度无需高精度，就能实现运放的共模抑制比的准确测量。
天眼查资料显示，武汉光谷薄膜技术有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光谷薄膜技术有限公司参与招投标项目4次，专利信息8条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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