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金融界2025年6月4日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“污染控制”的专利，公开号CN120092214A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，一种光刻图案形成装置污染控制组件，包括：支撑结构，所述支撑结构被配置成支撑相对于接地浮动的图案形成装置；遮蔽设备，所述遮蔽设备被配置成选择性地遮蔽所述光刻图案形成装置，所述遮蔽设备被连接至接地；气体供应件和离子化装置，所述气体供应件被配置成向所述离子化装置供应气体，并且所述离子化装置被配置成将所述气体转化为准中性等离子体，所述准中性等离子体位于在所述遮蔽设备与所述光刻图案形成装置之间的区中。
本文源自：金融界
作者：情报员
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