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金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，苏州新吴光电股份有限公司申请一项名为“一种玻璃表面残留蚀刻液的清除方法”的专利，公开号CN120054979A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明公开了一种玻璃表面残留蚀刻液的清除方法及采用玻璃表面残留蚀刻液的清除方法的玻璃蚀刻生产线；其中，玻璃表面残留蚀刻液的清除方法，应用于玻璃蚀刻生产线，包括：识别进入蚀刻区内的玻璃基板的平面尺寸,平面尺寸包括玻璃基板的长度和宽度；根据平面尺寸，调整倾斜角度调整装置的倾斜角度及爬升时间；当玻璃基板离开蚀刻区并在倾斜角度调整装置上时，滤除玻璃基板上残留的蚀刻液。降低了玻璃基板表面的残留蚀刻液量。
本文源自：金融界
作者：情报员
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