北京
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金融界2025年5月31日消息，国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“用于在衬底上和基座周围提供均匀工艺气体流的挡板”的专利，公开号CN120077164A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，一种衬底处理室包括基座和挡板。基座布置在衬底处理室中。基座包括底座部和杆部。底座部的直径大于杆部。挡板围绕基座布置，以引导供应至衬底处理室的气体流向基座周围，从基座的底座部的外围流向基座的杆部，并流向衬底处理室的一或多个排放口。
本文源自：金融界
作者：情报员
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