北京
金融界2025年5月16日消息，国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备、工艺腔室及下电极组件”的专利，公开号CN119993814A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本申请提供一种半导体工艺设备、工艺腔室及下电极组件，下电极组件包括卡盘、边缘环以及聚焦环，卡盘用于承载晶圆；边缘环围绕卡盘设置，用于保护聚焦环；聚焦环围绕卡盘设置，并位于边缘环的下方，聚焦环与边缘环配合形成调节电，聚焦环为中空，聚焦环用于填充液体，液体的液位改变用于控制以调节调节电容的电容值。工艺过程中，控制聚焦环中液体的液位变化能够改变调节电容的电容值，进而改变下电极组件的等效电极面积，使上电机组件和下电极组件之间的电容值发生改变。控制下电极组件和上电极组件之间的电容值能够使半导体工艺设备兼容反应离子刻蚀工艺的前道工序和后道工序，降低了企业的设备成本，提高了生产效率。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1042次，财产线索方面有商标信息62条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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