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金融界2025年5月10日消息，国家知识产权局信息显示，LG伊诺特有限公司申请一项名为“用于OLED像素沉积的沉积掩模”的专利，公开号CN119949070A，申请日期为2023年7月。
专利摘要显示，根据实施方式的沉积掩模包括金属板，该金属板包括沉积区域和非沉积区域，其中：沉积区域包括至少一个有效部分；有效部分包括多个单元通孔；单元通孔包括形成在金属板的第一表面上的小面积孔、形成在金属板的第二表面上的大面积孔以及将小面积孔与大面积孔连接的连接部分；在金属板的第一方向上相邻的单元通孔之间设置有肋部；在金属板的第二方向上相邻的单元通孔之间设置有岛状部分；岛状部分包括彼此间隔开的第一岛状部分和第二岛状部分；并且第一岛状部分与肋部接触，并且第二岛状部分与肋部间隔开。
本文源自：金融界
作者：情报员
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