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金融界 2025 年 5 月 10 日消息，国家知识产权局信息显示，杭州先研科技有限公司、浙江大学申请一项名为“一种 PAG 键接型光刻胶成膜树脂及其制备方法”的专利，公开号 CN119930906A，申请日期为 2024 年 12 月。
专利摘要显示，本发明公开了一种 PAG 键接型光刻胶成膜树脂，由甲基丙烯酸四氢糠基酯、2‑异丙基‑2‑甲基丙烯酸金刚烷基酯、甲基丙烯酸以及 4‑(乙烯基)苯磺酸三苯锍鎓盐四种单体通过可逆加成‑断裂链转移聚合方法制得，其结构式如下式 1。本发明将 PAG 单元掺入光致抗蚀剂树脂聚合物骨架中，所产生的光酸不再随机分散，其扩散被限制在一定距离内。该光刻胶成膜树脂在应用于光刻胶时，能够降低酸扩散及相分离等现象和线宽粗糙度，提高光刻胶分辨率及成像效果。本发明将 RAFT 法应用于制备 PAG 键接型树脂，拓宽了 RAFT 法制备分子量及分布可控的聚合物的应用领域。
本文源自：金融界
作者：情报员
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