北京
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金融界2025年4月9日消息，国家知识产权局信息显示，斯伦贝谢技术有限公司申请一项名为“色谱图分解与相应的校准”的专利，公开号CN 119780260 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，一种用
于校准GC设备的方法包括测
量对应的第一校准样品
和第二校准样品的第一
色谱图和第二色谱图，其
中第一校准样品包括第
一气体，并且第二校准样
品包括第一气体、第二气
体和第三气体。用从质量
平衡方程导出的基函数
拟合第一色谱图以获得
第一模型化色谱图。用第
一模型化色谱图的第一
仿射变换响应、第二仿射
变换响应和第三仿射变换响应拟合第二色谱图，以获得第二模
型化色谱图。第二模型化色谱图可用于分解未知气体样品的测
量的第三色谱图并估计其成分。
本文源自：金融界
作者：情报员
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