北京
金融界2025年4月8日消息，国家知识产权局信息显示，常州亿晶光电科技有限公司申请一项名为“一种太阳能电池全膜层钝化的ALD膜层沉积方法”的专利，公开号 CN 119767850 A，申请日期为 2024年12月。
专利摘要显示，本发明是一种太阳能电池全膜层钝化的ALD膜层沉积方法，包括以下步骤：S1、脉冲式通入H2O，使得H2O中的部分H进入硅片中；S2、脉冲式交替通入TMA和H2O，形成第一层氧化铝薄膜；S3、脉冲式通入H2O，使得H2O中的部分H进入第一层氧化铝薄膜中；S4、脉冲式交替通入TMA和H2O，形成第二层氧化铝薄膜。由于水处理硅片表面时会有一定的H进入，实现一定钝化，在通入TMA前实现硅片表面的饱和吸附，通入TMA时，MTA中的H原子不会进入硅片中，从而使得多次水预处理与沉积可以实现全膜层的钝化优异性与一致性。
天眼查资料显示，常州亿晶光电科技有限公司，成立于2003年，位于常州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本212946.1116万人民币，实缴资本212946.1116万人民币。通过天眼查大数据分析，常州亿晶光电科技有限公司共对外投资了10家企业，参与招投标项目475次，财产线索方面有商标信息19条，专利信息952条，此外企业还拥有行政许可89个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
