重磅消息!中国科技领域迎来一项突破性进展,有望打破西方技术壁垒,助力我国科技水平跃升新高度。
这项突破聚焦于光刻机技术。据最新报道,3月27日,中国科技企业新凯来在国际半导体设备和材料展上,以“五岳联盟”为主题,集中发布了六大类共31款半导体设备,目标直指全球高端市场。武夷山刻蚀机:性能对标美国应用材料(AMAT),应用于7nm以下先进制程,良率提升15%,挑战AMAT在刻蚀设备领域高达85%的市场份额。
阿里山ALD设备:具备原子级精度薄膜沉积能力,适配3nm制程,效率较日本东京电子(TEL)提升30%,成本降低40%。
峨眉山EPI外延设备:支持碳化硅、氮化镓等第三代半导体量产,性能优于AMAT同类产品25%,已获中芯国际、长江存储验证。
普陀山PVD设备:金属镀膜精度达到±1.3μm,进入中芯国际生产线验证,旨在打破AMAT的市场垄断。
历史经验表明,中国科技领域的每一次重大突破,往往伴随着资本市场的积极反应。例如,一八年中国刻蚀机实现国产替代,北方华创的gu价在三年内大幅上涨。又如,二一年拓荆科技在薄膜设备领域取得突破,其gu价也随之飙升。据称,新凯来技术授权企业的估值仅为当年北方华创的五分之一,且产品已与华为、中芯国际等行业巨头深度绑定。
以下几家公司值得关注:
至纯科技:新凯来湿法清洗设备的独家供应商,技术打破了日本DNS的垄断,良率高达99.999%。
冠石科技:国内少数能量产28nm光掩膜版企业,与新凯来在自对准四重成像(SAQP)技术方面有深度合作。
奥普光电:实际控制人长春光机所与新凯来合资成立长光集智,共同研发光刻机光学系统。
最后一家:该公司是新凯来在国内唯一的真空系统供应商,目前在手订单超过8000万元,市盈率仅为北方华创的三分之一,且gu价已出现放量上涨的信号,具备爆发潜力。具体就不在这说了,为避免打扰主力布局, 想知晓的朋友莱哦蚣众呺:木子分析,深知小散不易,愿与大家共前行!
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