原子层沉积3D打印公司获1500万美元A+轮融资，ATLANT创新半导体处理技术

2025年3月14日，南极熊获悉，直接原子层处理技术（DALP）先驱ATLANT 3D宣布在A+轮融资中成功筹集了1500万美元（1.08亿人民币）的新资本。本轮融资由West Hill Capital领投，继公司2022年完成A轮融资之后，再次证明了投资者对ATLANT 3D的技术潜力充满信心。

West Hill Capital合伙人Alan Richards表示：“我们连续在A轮和A+轮融资中投资ATLANT 3D，这充分反映了我们对这种变革性技术以及重塑微加工领域能力的坚定信心。该团队对颠覆性创新和战略执行的执着承诺，让我们相信ATLANT 3D拥有独特的优势，能够把握半导体和先进制造业领域的重要市场机遇。”

ATLANT 3D创始人Maksym Plakhotnyuk博士说：“这项投资标志着ATLANT 3D迈入新的发展阶段。我们的重要发现之一是，实验室迫切需要一种方法来构建复杂设备，摆脱传统多步骤制造以及测试和采用先进高质量材料的限制。我们的技术使得研究团队能够在几天内（而非数月内）创建和测试先进材料和原型设备，并为扩大生产做好准备。有了这笔资金，我们将继续开发工具，使任何实验室都能进行原子级制造，从而加速科学发现和工业应用的步伐。我们从研发、量子计算、航空航天、汽车、通信和半导体市场看到的需求表明，我们正在解决一个关键需求。我们正积极寻找希望加快研究周期、开发以前无法实现的设备，并构建下一代智能眼镜、量子计算机、人工智能芯片以及太空适用材料和设备的合作伙伴。”

ATLANT的原子级3D打印技术

原子层沉积（ALD）是一种薄膜沉积工艺，涉及前驱体化学物质（通常在真空中）与基底相互作用以生长薄膜。这一工艺与广泛采用的化学气相沉积（CVD）技术相似。ATLANT的优势在于它的深厚专业知识以及围绕ALD变体所拥有的专利。在ATLANT的方法中，微喷嘴被设计用于精确地将材料放置在特定位置，从而减少材料消耗，最小化对真空环境的依赖，并可能在保持高精度的同时提高沉积速率。

ATLANT的DALP技术可以在原子层面上精确地添加或去除材料，这种能力在制造领域是前所未有的。尽管目前这家初创公司似乎凭借一款可运行的设备和11项专利占据了领先地位，但整个原子层沉积技术领域正在不断发展。因此，ATLANT计划通过销售它的设备来影响学术和科研领域的影响力，这样做不仅可以帮助推动技术的使用和认可，还能为公司带来收益。该公司希望复制其它行业巨头（如Stratasys和EOS）的成功，它们通过使技术更广泛地被接受，从而在各自的市场中确立了领导地位。尽管在研究市场销售设备面临着许多挑战，但每次向研究人员出售设备都会增加该技术的使用范围，并提高公司的市场价值。

目前，这家公司专为研发团队设计推出了NANOFABRICATOR LITE，并已成功销售给超过50个组织，包括半导体公司和主要大学。同时，ATLANT正在开发更先进的FLOW系统。

ATLANT的设备兼容多种材料，如TiO₂、Pt、ZnO和SiO₂，而更多材料和反应物的研究仍在进行中。在探讨ALD技术的各种创新应用时，ATLANT已经巩固了它在行业中的地位，这是一家值得关注的公司。

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