北京
金融界 2025 年 2 月 12 日消息，国家知识产权局信息显示，苏州苏纳光电有限公司申请一项名为“角度可调的湿法刻蚀槽加工方法、硅反射镜及其制备方法”的专利，公开号 CN 119395938 A，申请日期为 2024 年 9 月。
专利摘要显示，本发明公开了一种角度可调的湿法刻蚀槽加工方法、硅反射镜及其制备方法。该加工方法包括：提供斜切晶圆，切割面的法向与单晶晶锭的轴向为预设夹角；在其中一切割面上刻蚀形成 V 型槽，V 型槽的一个刻蚀面与切割面形成的目标夹角至少由固有刻蚀角度和预设夹角所决定。本发明通过对衬底进行斜切，利用斜切形成的预设夹角来调整切割面与刻蚀面形成的目标夹角，能够自由调整目标夹角的大小，克服一些刻蚀效果较优的晶面的固有刻蚀角度难以满足应用需求的弊端，进一步进行硅反射镜的制备，能够利用 111 晶面形成反射面和基础面为 45°夹角的反射镜，避免了其他晶面刻蚀粗糙以及加工复杂的问题，还避免了利用台阶来调整反射角的支撑性问题。
天眼查资料显示，苏州苏纳光电有限公司，成立于2014年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本618.2605万人民币，实缴资本524.3199万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州苏纳光电有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目30次，知识产权方面有商标信息6条，专利信息154条，此外企业还拥有行政许可4个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
