台积电CoWoS产能2025年翻倍，竞争对手紧追不舍

近日SemiWiki发布数据报告称，台积电的先进封装CoWoS月产能（WPM）在2025年将达到6.5万片/月至7.5万片/月，而2024年的产能为3.5万片/月至4万片/月，今年产能预计将翻一倍。此前，台积电CEO魏哲家在去年财报业绩会上表示，2024年台积电先进封装产能处于供不应求的状态，状态会持续到2025年，并将于2025年或2026年实现供需平衡。

该报告预计，英伟达是2025年台积电CoWoS的最主要客户，占整体产能63%。同时根据光大证券，博通、AMD、美满、亚马逊等芯片大厂均对台积电CoWoS的需求持续增加。

不过根据SemiWiki预计，博通、AMD和美满仅占2025年台积电整体CoWoS产能10%左右，而亚马逊、Intel Habana等仅占3%左右份额。台积电的CoWoS产能可能在2025年主要供给于英伟达，对于其它企业而言，其CoWoS可能仍处于供不应求的情况。

CoWoS是台积电推出的2.5D先进封装服务，是英伟达生产H100、B100等GPU必不可少的制造工艺。CoWoS的技术路线图显示，台积电目前主要采用的是CoWoS-S/L/R三种（按照CoWoS的中介层不同进行的区分），采用3.3倍光罩尺寸，同时封装8个HBM3。台积电预计到2027年，公司主要采用CoWoS-L，8倍光罩尺寸，可同时封装12个HBM4。此外，台积电还推出了3D先进封装，名叫SoIC。

业界认为摩尔定律正走向物理极限，通过先进封装提升芯片性能成为大势所趋。不仅台积电推出了2.5D及3D先进封装，而且另两家头部晶圆厂也纷纷推出相关服务。三星电子推出I-Cube、H-Cube和X-Cube三种先进封装，前两者属于2.5D封装，后者为3D封装。英特尔也推出EMIB、Foveros、Co-EMIB等2.5D和3D封装服务。

目前台积电处于领先地位。一位晶圆代工业者表示，台积电的优势在于良率的know how，而这来自于多年的实际生产经验积累。

一位从事先进封装EDA的人士告诉记者，2.5D封装领域竞争的核心在于良率，并且良率的微小差别就会产生巨大成本差异：“2.5D或3D先进封装，封装的是GPU、CPU、HBM等，一旦封装出错，就有可能损坏这些芯片，而这些芯片价格昂贵。”她进一步指出，即使上述芯片未损坏，出现差错后，先进封装采用的高价值基板也会受损，并且市场化时间拉长，也会大幅抬升成本。

虽然台积电在良率上略胜一筹，但是其它厂商在技术上也有创新。CoWoS采用的TSV中介层被认为价格昂贵，也有厂商尝试替代TSV中介层来降低成本，比如英特尔。英特尔推出EMIB的2.5D封装采用了硅桥，而非TSV中介层，进而避免了制造TSV中介层的工艺难度和高昂成本问题。此外，英特尔还将EMIB和Foveros（英特尔另一种2.5D和3D封装技术）相融合，推出了3.5D EMIB。

除了台积电、三星和英特尔进军该领域外，封测厂也在尝试，包括日月光、安靠等。上述晶圆厂代工人士认为，此类先进封装涉及晶圆制造的前段制程，而封测厂少有涉猎，因而缺乏相关制造经验，所以对于未来高性能要求的先进封装只能晶圆厂做，封测厂难有竞争力。不过，一位为晶圆厂制定先进封装方案的人士认为，上述看法过于绝对，在封测厂完成整套2.5D或3D先进封装在未来是完全可行的。