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金融界2024年12月24日消息，国家知识产权局信息显示，北京京东远升科技有限公司申请一项名为“一种底图处理方法及装置”的专利，公开号 CN 119166843 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本公开提供了一种底图处理方法及装置，其中，该方法包括：获取初始底图中多个原始瓦片的像素数据与索引值；基于用户选定的图像处理方法，调整多个所述原始瓦片的像素数据，得到多个目标瓦片；基于所述索引值，绘制与每个所述目标瓦片对应的图像，得到目标底图。该实施方式能够使经过处理的底图适用于不同的显示需求，提高了底图服务的灵活性与适应性。
本文源自：金融界
作者：情报员
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