ASML没料到：光刻机新技术出现，EUV还有优势么？

在芯片制造领域里，光刻机无疑是必不可少的核心设备，也是最耀眼的“明星”。它更像是一位“魔法师”，能将复杂的电路图案投射到芯片上，从而创造出了无数令人惊叹的科技奇迹。

然而，光刻机里面涉及上十万个零件，需要成千上万的供应商提供核心部件，其制造难度极高。目前在这个领域中，仅有ASML一家做得最好，是遥遥领先的王者。

ASML的光刻机，特别是EUV光刻机，对于先进芯片的制造有着举足轻重的作用。然而，ASML可能也没有预料到，光刻机领域正在发生“大反转”。近来新技术的出现，让ASML多了几分竞争威胁，让人不禁想问：EUV光刻机还能保持优势吗？

首先，让我们回顾一下光刻机的历史，你会发现领先者是在不断地变更着的。

早在1980年之前，美国的半导体设备厂商凭借先发优势，在赛道上一马当先。当时的“光刻三雄”——GCA、优特、珀金埃尔默三家美国企业，占据了全球市场的大部分份额。

然而，时间的车轮滚滚向前，到20世纪80年代以后，赛道上的领跑者变成了日本的尼康和佳能。它们抓住了技术变迁的机遇，迅速崛起，成为了“光刻机双雄”。直到21世纪初，ASML开始崛起，2009年就占据了70%的市场份额。

虽然，目前尼康和佳能依然还在光刻机领域拥有一定的市场份额，但与 ASML相比，已经相形见绌。

要知道ASML在1984年才成立，但它后来居上，凭借着浸没式DUV光刻机的技术突破，实现了弯道超车。值得一提的是，英特尔牵头成立的EUV技术联盟将尼康等日企拒之门外，这使得ASML得以在EUV光刻机领域独领风骚。

然而，正如赛车比赛中没有永远的冠军一样，光刻机的故事也在不断续写。也许，下一场变化也即将来临。

正如一位业内人士所说：想要实现光刻机的弯道超车或许很难，可是让一家光刻机巨头“衰弱”却并没有那么困难。这一观点，从美国三巨头到日本双雄再到ASML，已经被证实是可信的。

如今，ASML就面临着“衰弱”的风险，因为新技术已经出现。

近期，科学家提出的BEUV技术让人眼前一亮。BEUV全称是“Beyond Extreme Ultraviolet”，翻译过来就是“超越极紫外”，它能够实现更短的波长（波长：6.X nm）。

业内人士甚至预测，到2035年之后，EUV光刻机可能会被BEUV光刻机所取代，理由是BEUV波长比EUV（波长：13.5nm）更短，具有更大的焦深DoF，可以带来更大的工艺容忍度。

然而，在BEUV技术方面，ASML的表现并不出色，或者说没有技术资本，令其难以形成优势。

不仅如此，佳能推出的纳米压印技术也来势汹汹，制造成本和使用成本仅为EUV光刻机的十分之一，优势明显。

去年10月，佳能就曾对外宣布，其公司开发并正在销售的“纳米印刷”技术的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，已经可以制造5nm芯片。去年年底，该公司还透露，其公司“纳米压印光刻机”有望在2026年实现2nn芯片制造。

意味着，这种纳米技术新型设备已经达到了EUV光刻机的水平，而且比EUV更便宜更好用，将来甚至有望能颠覆行业巨头ASML。该设备的面世，对ASML来说并不是好事，让其面临着巨大的竞争威胁。

可以说，如今的 ASML，面临着多重挑战。

EUV光刻机的出口受限，新技术的涌现，都让这位光刻机巨头的日子不那么好过。想要保住自己的市场份额和领先地位，ASML恐怕需要付出更多的努力。对于我们来说，这算是一场精彩绝伦的大戏，因为只有颠覆行业，才能有弯道超车的希望。

在这个充满变数的科技世界里，谁能笑到最后？ASML 是否能够在光刻机领域实现弯道超车？让我们拭目以待。也许，下一个科技奇迹就在不远处等待着我们。