今年实现5nm量产，2026年实现2nm，EUV光刻机破局者真的来了？

在这两年芯片技术的竞争中，对于芯片制造设备光刻机的关注度也开始持续上升。在之前，相信大家所熟知的光刻机品牌都是来自荷兰的阿斯麦。但是最近据消息透露，光刻机似乎迎来破局者。

对于芯片技术来说，其中的痛点就在于光刻机。几乎在制造芯片中的每一个工艺，都离不开光刻机。如果光刻机技术无法实现突破性进展，那么芯片也很难有什么真正的发展。目前为止，全世界光刻机公司实力最强劲的是来自荷兰的阿斯麦，几乎垄断了7nm以下的光刻机生产。但是就在最近，似乎有另外一家企业在光刻机上实现了崭新突破。

之前有消息报道，来自日本的佳能宣布推出新的光刻机设备，采用纳米压印技术。根据佳能的介绍，新设备的纳米压印技术可以把最小实际线宽14nm的图形化工作变成现实，相当于最先进的逻辑代工5nm工艺。

如果对纳米压印技术进行进一步改进，那么就有可能实现最小10nm的电路图案，差不多相当于2nm的工艺。所以也就是说，日本佳能突破了5nm和2nm的技术？那么他们有可能打败荷兰阿斯麦吗？

其实，事情并不是这么简单粗暴理解的。很多人对于纳米压印技术可能不太了解，其实这并不是特别新型的科技。我在1995年的时候，它的概念就已经被华裔科学家周郁提出来了。

2003年的时候，纳米压印就已经被纳入国际半导体技术蓝图。

2009年，美国一家公司Molecular Imprints开始使用纳米压印技术进行研发，他们计划用纳米压印来进行32nm逻辑节点的生产制造，但是最终进展的并不算顺利。而在2014年，佳能收购了这家公司。

在某种程度上，佳能的纳米压印技术的确得到了部分下游客户的认可。而且作为光刻图形化技术之一，纳米压印技术也的确被非常看好。但是否能打败荷兰阿斯曼还有待商榷。

首先不可否认纳米压印技术的确有着不少的优点，比如能实现精度更小的图形化工艺，而且纳米压印技术的设备也相对来说更便宜，连传统光刻机的1/10都不到，可以说性价比超高。而且比起光刻机也更加节能，耗电量低。

但凡事都不可能是真正完美无缺的，纳米压印技术也不例外。首先，纳米压印技术并不是完全意义上的创新，从技术层面上来讲，纳米压印技术多年前的接触式光刻机工作原理别无二致。当年的接触式光刻机就有诸多问题，导致最后的成品良品率非常低，只有10%左右。

荷兰阿斯麦之所以能称霸全球光刻机市场，自然是有着他非常强悍的实力的。荷兰阿斯麦的光学投影系统以及效率高、精度准的双工件台技术简直到了变态级别。在光刻机的曝光效率以及成像精度上，荷兰阿斯麦几乎做到了极致。

阿斯麦能做到的这些，日本佳能可以做到吗？目前为止，荷兰阿斯麦在技术领域的王者位置似乎还是很难动摇。

而且非常致命的一点，佳能的纳米压印技术设备虽然便宜，但是使用寿命有限。而荷兰阿斯麦的光刻机效率高，品控好，关键寿命非常长，很多工厂的阿斯麦光刻机工作个十年不成问题。所以要说被轻易取代，几乎是不可能的。

因此可以这么理解，日本佳能的纳米压印技术在光刻机领域的确有一定的突破，但是是以牺牲其他方面来达成的。所以在真正实现应用的时候，可能会存在一些困难。

但是无论如何，在很多人看来，只要在光刻机的技术领域层面能够有其他的出路，就多了一份可能和希望。等到日后纳米压印技术随着时间的推进趋于完善成熟时，品控和成本问题都解决好，对于半导体行业来说也是一个极大的进步。

现在由于国内非常关注芯片问题，因此对光刻机大家也投入了很多的注意力。但也正因为如此，在看到很多新消息出来的时候，也要更加全面细致的了解其真实性。否则如果只是知道一部分信息的话，很有可能会被误导。

也希望我国的光刻机能够在技术领域实现突破，只有这样我们才能真正做到不被卡脖子。对于这一点，我们可以给国内的企业厂商再多一点时间和信任，相信他们一定能够做到。

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