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东进世美肯正在开发2nm半导体工艺核心材料 High NA光刻胶

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CINNO Research产业资讯,东进世美肯(Dongjin Semichem)投身于“High NA极紫外线(EUV)”用光刻胶(Photoresist,PR)的开发中。High NA EUV是被称为新一代半导体曝光设备的设备,被誉为2纳米以下超细微工艺必备的设备。继国内首次量产全部依赖于进口的半导体EUV PR后,将挑战新一代PR材料的国产化。

根据韩媒ETNews报道,东进世美肯最近制定了High NA EUV PR开发路线图。将从今年下半年启动研发,目标是最快在2025年上半年完成技术开发。公司计划在荷兰半导体设备公司ASML的High NA EUV设备大规模生产之前完成PR开发。

PR是在晶圆上绘制半导体电路的曝光工艺用核心材料。在晶圆上涂布后,经过曝光作业,性质就会发生变化,将成为电路图案的底色。EUV用PR尤其是在绘制高分辨率图案时,是必需的材料。到目前为止,虽然全部依赖于从日本等海外进口,但东进世美肯去年曾首次成功实现EUV PR的国产化。采用纯韩国自有技术,成功开发出了2019年作为日本出口管制三大品种之一的光刻胶,引起业界广泛关注。目前正在向三星电子供货。

新挑战的新产品是配合“High NA EUV”设备的新一代EUV PR材料。High NA EUV是将展现集光能力的镜头开口数(NA)从原来的0.33提高到0.55的设备,是能够绘制超细电路图案的关键设备。三星电子、SK海力士、TSMC、英特尔等尖端半导体企业都决定从ASML引进该设备。ASML是世界上唯一一家能够提供EUV设备和新一代High NA EUV设备的企业。

ASML预计明年出货首台High NA EUV设备。据悉,2026-2027年将实现大规模量产。东进世美肯在High NA EUV市场正式爆发前完成相关PR产品商业化,为抢占市场打下铺垫。

东进世美肯推进多种High NA EUV的PR开发流程。这是因为High NA设备初期的生产效率会下降,影响半导体良率的因素非常多,因此将考虑到多种“变量”,进行产品开发。除了采用少量产生高灵敏度化学反应的化学放大光刻胶(CAR)型外,还考虑到了基于无机物(MOR)的产品。考虑到无机物PR与无机物相比,实现超细微电路的精度更高。

为尽量减少半导体曝光工艺时间,公司还推进改善PR分辨率、图案粗糙度和灵敏度。这些因素左右着PR的品质、是提高半导体生产性的关键因素。

东进世美肯开始开发High NA EUV用PR,预告将与现有的市场领先者一决高下。EUV PR由信越化学、JSR、TOK等日本企业主导。据悉,他们也在开发High NA用PR。

东进世美肯相关人士表示:“材料开发公司必须比零部件、设备公司至少快6个月,才可能被半导体厂商或设备公司采用自己的材料”,并称,“由于新一代EUV设备尚未普及或材料开发需要验证,将通过客户、合作伙伴等获得产品测试机会,并将启动针对High NA EUV设备优化的PR开发的各种流程。”

全球显示及半导体光刻胶市场分析报告

第一章:显示面板正型光刻胶市场分析

一、 显示面板光刻胶材料介绍

1.显示面板光刻胶材料分类介绍

2.液晶显示面板用正型光刻胶介绍

3.液晶显示面板用负型光刻胶介绍

4.OLED显示面板用正型光刻胶介绍

二、 2016-2025全球显示面板产能状况及趋势

1.2016-2025全球总体显示面板产能状况及预测

2.2016-2025全球TFT-LCD面板产能占比趋势预测

3.2016-2025全球AMOLED面板产能占比趋势预测

三、 2016-2025全球显示面板用正型光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025全球显示面板正型光刻胶市场容量及预测

2.2016-2025全球显示面板正型光刻胶市场规模及预测

四、 2016-2025全球显示面板用正型光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025中国显示面板产能状况及预测

2.2016-2025中国显示面板正型光刻胶市场容量及预测

3.2016-2025中国显示面板正型光刻胶市场规模及预测

4.2020年全球主要显示面板正型光刻胶材料厂商名录

5.2020年全球显示面板正型光刻胶市场份额分析

第二章:半导体光刻胶市场分析
一、 半导体光刻胶材料分类介绍

二、 2016-2025全球晶圆产能状况及预测

三、 2016-2025全球半导体光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025全球半导体正型光刻胶市场容量及预测

2.2016-2025全球半导体正型光刻胶市场规模及预测

3.2020年全球主要半导体光刻胶材料厂商名录

4.2020年主要半导体G/I线光刻胶材料厂商市场分析

5.2020年主要半导体KrF线光刻胶材料厂商市场分析

6.2020年主要半导体ArF/ArFi光刻胶材料厂商市场分析

第三章:正型光刻胶用光敏剂材料市场分析
一、 全球显示面板光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1.2016-2025全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2.2016-2025全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

二、 中国显示面板光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1.2016-2025中国显示面板光刻胶用光敏剂市场容量及预测

2.2016-2025中国显示面板光刻胶用光敏剂市场规模及预测

三、全球半导体光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1. 2016-2025全球半导体光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2. 2016-2025全球半导体光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

四、中国半导体光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1. 2016-2025中国半导体光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2. 2016-2025中国半导体光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

五、全球光敏剂材料供应链及市场分析

1. 全球主要显示面板及半导体光刻胶用光敏剂材料厂商分析

2. 全球主要光刻胶与光敏剂材料厂商供应链关系分析

3. 2020年全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场分析

4. 2020年全球半导体光刻胶光敏剂材料市场分析

5.2020年光刻胶用光敏剂市场价格分析

媒体关系:

市场部经理 Cherry Zeng

TEL:(+86)186-2523-4072

Email:CherryZeng@cinno.com.cn

市场部总监 Ann Bao

TEL:(+86)189-6479-8590

Email:AnnBao@cinno.com.cn

产业咨询:

销售部副总 Venia Yang

TEL:(+86)137-7184-0168

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