北京
中证网讯（记者 王可）11月18日，主营半导体专用设备业务的盛美上海（688082.SH）举行了科创板上市周年庆暨新品发布会。此次发布的新产品是前道涂胶显影设备Ultra LITH，这标志着盛美上海正式进入了半导体前道光刻领域。
盛美上海董事长王晖博士在发布会上表示：“我荣幸地宣布，盛美上海已正式进军Track市场，这将成为我们的又一大新产品品类。Gartner数据显示，2022年全球Track市场规模将达37亿美元，这是盛美上海发展的新契机。得益于盛美上海在软件和机械手技术方面的核心竞争力，加之涂胶显影设备的优良性能以及具有全球专利申请保护的全新架构，我们可以凭借竞争性产品及服务成功进军Track市场，这也标志着我们在满足当前及未来前道光刻工艺需求中迈出了关键的第一步。我们相信这款全新产品会有巨大的需求潜力”。
在前道光刻领域迎来突破
盛美上海此次发布的新品用于前道300mm晶圆的涂胶显影，具有4个12英寸装载端口，8个涂胶腔和8个显影腔，可进一步扩展到12个涂胶腔和12个显影腔，适用于i-line、KrF和ArF等多种材料的涂胶显影工艺。
公司介绍称，早在2013年时，盛美上海便研发出了用于后道封装的涂胶设备及显影设备，并于2014年交付首台订单。在经过多年涂胶及显影技术的积累后，公司终于在前道光刻领域迎来突破。
盛美上海2022年半年报表示，公司的主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管设备和先进封装湿法设备，通过多年的技术研发，公司在上述产品领域均掌握了相关核心技术，这些核心技术均在公司销售的产品中得以持续应用并形成公司产品的竞争力。
在18日的发布会上，盛美上海表示，Ultra LITH的发布，代表着以清洗设备起家的盛美上海在半导体制造工艺中的布局“再下一城”。自2021年11月18日在科创板上市至今，仅一年的时间，盛美上海便已发布了包括此次的前道涂胶显影设备在内的共计8款产品，涉及了半导体及新型化合物半导体制造工艺的电镀、清洗、原子层薄膜沉积、涂胶显影等多个环节，凸显了公司的强大研发实力。
2022年1月-6月，盛美研发投入总额为1.87亿元，较上年同期研发投入总额增长62.97%。主要是随着现有产品改进及工艺开发以及新产品及新工艺开发，研发测试等服务费增加，聘用的研发人员人数以及支付研发人员的薪酬增加。截至2022年6月30日，公司及控股子公司拥有已获授予专利权的主要专利368项，其中境内授权专利161项，境外授权专利207项，其中发明专利共计363项。
业绩稳步增长
根据公司10月28日发布的2022年三季报，2022年前三季度，盛美上海营业总收入19.78亿元，同比上升81.86%；归母净利润4.41亿元，同比上升196.42%。2022年第三季度，公司营业总收入8.83亿元，同比上升90.87%；归母净利润2.04亿元，同比上升245.91%。
对于业绩增长的原因，盛美上海公告称，受益于公司的技术优势和产品多元化战略布局，以及市场对公司半导体设备的强劲需求，前三季度公司订单量快速增长。公司持续优化生产经营，强化供应链管理，扩充川沙工厂产能及提高生产效率，确保订单的及时履约交付，实现公司业绩的稳步增长。
截至2022年9月30日，盛美上海在手订单总金额为约为46.44亿元（含已签订合同及已中标尚未签订合同金额），同比增长105.32%。
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