光刻胶行业主要上市公司：飞凯材料(300398)、容大感光(300576)、广信材料(300537)、上海新阳(300236)、永太科技(002326)、雅克科技(002409)、江化微(603078)等
本文核心数据：技术来源国、专利申请人排名、专利申请新进入者、市场最高专利价值
全文统计口径说明：1)搜索关键词：光刻胶及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围：标题、摘要和权利说明;3)筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT国际公布、PCT进入指定国(指定期)，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截止日期：2021年9月23日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。
1、全球光刻胶技术区域竞争格局
(1)技术来源国分布：日本占比最高
目前，全球光刻胶第一大技术来源国为日本，日本光刻胶专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46%;其次是美国，美国光刻胶专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的25%。
(2)专利申请趋势：2020年中国反超美国，日美“你追我赶”
从趋势上看，2010-2021年，日本光刻胶专利申请数量总体领先，但是在2019年被美国反超、2020年被中国反超。2020年，中国光刻胶专利申请量为1.29万项，日本光刻胶专利申请量下降至8982项。
(3)中国区域专利申请分布：广东自2016年后一直位居榜首
中国方面，上海为中国当前申请光刻胶专利数量最多的省份，累计当前光刻胶专利申请数量高达1.88万项。北京、江苏、广东当前申请光刻胶专利数量均超过1万项。中国当前申请省(市、自治区)光刻胶专利数量排名前十的省份还有中国台湾、浙江、湖北、安徽和陕西。
趋势方面，2017年以前，上海的专利申请量适中保持领先;2017年以后，江苏、北京和广东的光刻胶申请量“你追我赶”;此外，安徽、浙江的专利申请量也波动较大。
2、全球光刻胶技术申请人竞争格局
(1)专利申请人集中度：市场集中度不高，CR10波动上升
2010-2021年9月，全球光刻胶专利申请人CR10呈现波动上升趋势，由2010年的15.89%波动下降至2021年9月的21.28%。整体来看，全球光刻胶专利申请人集中度较低，且集中度呈现上升趋势。
(2)TOP10专利申请人
——总量及趋势：竞争格局趋稳、佳能株式会社夺得桂冠
全球光刻胶行业专利申请数量TOP10申请人分别是佳能株式会社、株式会社东芝、三星电子株式会社、松下电器产业株式会社、爱思开海力士有限公司、富士通株式会社、株式会社理光、株式会社日立制作所、索尼公司、日本电気株式会社。
其中，佳能株式会社公司光刻胶专利申请数量最多，为2.79万项。株式会社东芝、三星电子株式会社公司排名第二和第三，其光刻胶专利申请数量均超过2.3万项。
趋势方面，2010-2015年，全球前十大光刻胶专利申请人申请的光刻胶专利数波动较大;2016年以后，申请人申请的光刻胶专利数趋缓，同时，TOP10的排名于2016年以后逐渐趋稳。其中，株式会社理光在2010-2013年的申请量位居首位;佳能株式会社在2014-2019年间的申请量位居第一;三星电子株式会社在2020-2021年的申请量位居行业首位。
——专利技术分布：H01L21细分领域布局较多
目前，全球光刻胶行业专利申请数量TOP10申请人技术主要布局在H01L21细分领域，其中全球光刻胶专利申请量第一的佳能株式会社公司在该细分领域专利申请量达到7437项。
(3)市场价值最高TOP10专利的申请人：苹果公司占3席
全球光刻胶市场价值最高TOP10专利中，有3席由苹果公司占据，并且苹果公司拥有三项全球光刻胶市场价值均在1200万美元以上。
(4)专利申请新进入者：三大新进入者
全球新进入者有四位，分别是长江存储科技有限责任公司、长鑫存储技术有限公司和深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，并且这三大新进入者在2017-2021年间申请的光刻胶专利较为活跃，其中苏宁光刻胶有限公司申请的光刻胶专利数量最多，为1330项。
以上数据参考前瞻产业研究院《中国光刻胶行业市场前瞻与投资规划分析报告》，同时前瞻产业研究院还提供产业大数据、产业研究、产业链咨询、产业图谱、产业规划、园区规划、产业招商引资、IPO募投可研、招股说明书撰写等解决方案。
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