长期以来，我国的芯片行业在国外的控制下，处于被卡脖子的困境之中，现今据杭州网报道，浙江西湖大学另辟蹊径，将一种名为“冰刻”的技术成功研发，有可能使得我国不用再苦等光刻机，可把传统光刻过程使用的光刻胶换成“冰”。而该技术的研发，使得我国芯片行业有了更为广阔的想象空间。
这是不是意味着，我国不仅不必被欧美企业在芯片行业上卡脖子，还有可能实现弯道超车的机会？如果我国的这一项技术未来能够在应用中取得成功，能够制造出高水平芯片，就有可能不必受国外的相关限制，不过目前该项技术刚有雏形，还需要一个实验、应用等过程，无法确定何时才能实现相关目标。
传统光刻技术离不开光刻胶，在光刻过程中，首道工序便是涂抹光刻胶，这一道工序直接影响着芯片最后产出时的良品率。这个过程有多难？我们可以把它想象成把胶水涂在一块木板上，这块木板不能太小，也不能有一点不平整的地方，不然胶水无法涂抹均匀。由此可见，它有多难。而国外一直以来垄断了光刻胶制造工艺，使得我国在这一技术上受限制。
在限制之下，我国少有企业能够制造出优秀的光刻胶，加上我国芯片企业也才刚起步，显然难与欧美制造商相较量。此次西湖大学著名教授仇旻另辟蹊径，想到了把光刻胶换成其他更有优秀的物质，比如把水凝成冰，尝试达成光刻胶没法达到的事。此外，水能够用很低的成本去达成，在零下100度的真空环境中，水能够达到无定形的冰层，且水能够对任何形状、任何大小的表面进行包裹，并能够涂抹均匀。
这一技术很前沿，目前而言对这一技术进行研究的国家很少，世界上只有两个实验室在推进，一个是仇旻教授的团队，另一个是丹麦团队。而仇旻教授的团队相关研究人才非常少，不过这并没有使他产生任何放弃的念头，而是选择坚定去挑战。
8年前，仇旻教授在拥有自己的实验室后，便招揽相关博士生对自己进行协助。而在他的带领下，其团队经过不懈的努力，不断地研发创新，目前已经制造出了冰刻机的雏形，为冰刻机的落地做出了巨大贡献，令国人为之振奋，外界对该技术充满了憧憬。
如果未来冰刻机可以投入应用，我国将不必伸长脖子去等待国外的光刻机，而美方所下的相关禁令到时候也会失去作用，那么这将是我国弯道超车的好机会。不过这一技术也才刚起步，目前尚未成熟，还需要一段不确定的时间去成长，且不知道结果是否理想，所以，传统光刻技术仍需要努力去突破。但无论如何，我国能够把这一技术给研发出来已经很难得。
在听到好消息的同时，另一个好消息传来，即美国把中芯国际列入了实体清单，使得我国芯片产业再次受到了严重的打击。为此中芯国际表示，因拥有国外光刻机等先进设备才能把更高精度的芯片研发出来，所以像10nm以下精度更高的芯片研发，于他们而言是道坎，无奈的是美方现在做出了这番动作。
可以说，目前芯片企业最头痛的问题就是光刻机的问题，特别是极紫外线光刻机，更是难上加难，所以大家也只能选择绕开这个问题，寻找不必使用该款光刻机来制造芯片的方法，为光刻机带来了希望，对此外界也很关心这一技术的研究进度，但在这条研发之路上我国也只能耐心稳步地前行。
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