我们在某些技术领域方面的缺陷是较为显著的，因为初期的發展中，我们的起点就较为晚了，因此如今要想这方面有一定提高，或许要付出越来越多的努力。
在这些方面最让各位头痛的实际上便是芯片制造行业领域，我国尽管有很多的某些芯片研发能力提升，可是最核心的1个缺陷就关键在于光刻机的研发。
可是要是细心的来分析我国如今的發展的话，我们缺的不单单是是光刻机，即便如今可以买来在别的方面的不足也還是较为显著的。
除了核心的光刻机以外在光刻胶的發展上也是我们的薄弱环节，在芯片上的一部分生产原材料全是我们没法补上的。
光刻机是各位十分清楚的，另一种东西便是光刻胶，它是在芯片生产过程中，有关某些细微图形加工的核心原材料。
光刻胶和初期的数码相机冲洗胶卷实际上是相同的原理，因为是1种有机物，在被紫外线曝光之后，便会发生变化，而我国对芯片的研发是十分有突破的，因此即便有这种技术，也还没法在这方面进行补助，因此要想独立生产芯片，艰难還是较大。
有很多人感觉那既然和相机胶卷的工作原理相同，那麼能不能充分利用这种的制造技艺呢？虽说工作原理相同，可是在原材料利用上，它的要求是更高的，要是不能找到适合的一些东西的话，它的發展也会更加艰难。
因为光刻胶的分辨率远远地要高过一般的胶片，它是必须用光学显微镜才可以看清的，这也在制造过程中造成 了越来越多的难题。
除了技术以外，它的生产还涉及到了专利以的问题，国內的企业即便知道它的某些配方和生产工艺流程，也是没法进行独立生产的，因为受到了专利的保护，这也是我们在新产品建设行业领域没法發展的一个大根本原因。
即便近几年来我们的發展较为有优势，可是要想获取某些更好的成就還是较为艰难的，我们在高端制造行业领域很难达到标准，想有一定發展就更要战胜困难。
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