国家知识产权局信息显示,合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“磁控溅射装置及溅射镀膜方法”的专利,公开号CN122833516A,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,本申请提供了一种磁控溅射装置及溅射镀膜方法,磁控溅射装置包括溅射腔室、载台、靶材、永磁铁、驱动机构、磁场检测件和控制器。溅射腔室内部呈中空设置;载台用于承载待镀膜件;靶材与载台相对且间隔设置,靶材位于溅射腔室的顶部;永磁铁设置在靶材背离载台一侧,用于产生磁场;驱动机构用于驱动永磁铁在第一方向上靠近或者远离靶材运动;磁场检测件用于检测永磁铁产生的实时磁场强度;控制器与磁场检测件以及驱动机构连接,用于根据磁场检测件检测到的永磁铁产生的实时磁场强度,控制驱动机构驱动永磁铁在第一方向上运动,以调节永磁铁与靶材之间的距离。本申请能够实现自动调节永磁铁和靶材之间的距离,优化成膜均一性,提高装置运行效率。
天眼查资料显示,合肥维信诺科技有限公司,成立于2018年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析,合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目999次,专利信息4699条,此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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