北京
国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“磁控溅射装置及溅射镀膜方法”的专利，公开号CN122833516A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请提供了一种磁控溅射装置及溅射镀膜方法，磁控溅射装置包括溅射腔室、载台、靶材、永磁铁、驱动机构、磁场检测件和控制器。溅射腔室内部呈中空设置；载台用于承载待镀膜件；靶材与载台相对且间隔设置，靶材位于溅射腔室的顶部；永磁铁设置在靶材背离载台一侧，用于产生磁场；驱动机构用于驱动永磁铁在第一方向上靠近或者远离靶材运动；磁场检测件用于检测永磁铁产生的实时磁场强度；控制器与磁场检测件以及驱动机构连接，用于根据磁场检测件检测到的永磁铁产生的实时磁场强度，控制驱动机构驱动永磁铁在第一方向上运动，以调节永磁铁与靶材之间的距离。本申请能够实现自动调节永磁铁和靶材之间的距离，优化成膜均一性，提高装置运行效率。
天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4699条，此外企业还拥有行政许可43个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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