北京
国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“沉积槽及其支撑件、沉积环及用于工艺腔室的处理套件”的专利，公开号CN122727736A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体技术领域，公开了一种沉积槽及其支撑件、沉积环及用于工艺腔室的处理套件，其中，沉积槽包括：第一环状面；第二环状面，所述第二环状面位于所述第一环状面内侧且与所述第一环状面处于同一平面；环状形变体，由形状记忆合金制成，所述环状形变体分别连接所述第一环状面和所述第二环状面，以及所述环状形变体在转变温度以上的稳定形态为相对于所述第一环状面和所述第二环状面抬升的凸起结构。本申请提高半导体器件气相沉积作业时的可靠性和性价比。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目1501次，财产线索方面有商标信息75条，专利信息5948条，此外企业还拥有行政许可341个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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