北京
国家知识产权局信息显示，武汉简一科技有限公司申请一项名为“一种窄带吸收型彩色辐射制冷材料及其制备方法”的专利，公开号CN122668583A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本发明公开了一种窄带吸收型彩色辐射制冷材料及其制备方法，涉及辐射制冷材料技术领域。该方法包括：采用正辛基三乙氧基硅烷对二氧化硅进行表面改性制得疏水二氧化硅；用γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷处理玻璃短纤维，并与丙烯酸正丁酯和甲基丙烯酸甲酯共聚得到柔性包覆纤维；将聚偏氟乙烯‑六氟丙烯共聚物溶解后，加入硫酸钡、所述疏水二氧化硅、所述柔性包覆纤维、片状滑石粉和硬脂酸包覆纳米碳酸钙分散，以水为非溶剂进行相转化制得多孔散射承力层；最后在其表面涂布含窄带吸收溶剂染料的聚偏氟乙烯‑六氟丙烯共聚物溶液，干燥形成窄带吸收彩色层，即得。该材料兼具彩色外观与高效辐射制冷性能。
天眼查资料显示，武汉简一科技有限公司，成立于2017年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本270万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉简一科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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