北京
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国家知识产权局信息显示，杜邦电子公司申请一项名为“用于形成导电结构的方法”的专利，公开号CN122641265A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本公开提供了一种用于形成导电结构的方法。该方法包括：i)将导电油墨组合物施加在衬底上；以及ii)对所施加的导电油墨组合物执行IR激光辐照。IR激光辐照以800 nm至1150 nm的波长和100飞秒至5000飞秒的脉冲持续时间执行，并且以绝对值在2 mm至40 mm的范围内的散焦Z偏移操作。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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