北京
国家知识产权局信息显示，福州恒美光电材料有限公司申请一项名为“一种无表面处理PMMA光学膜用压敏胶保护膜及制备方法”的专利，公开号CN122563496A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及一种无表面处理PMMA光学膜用压敏胶保护膜及制备方法，保护膜由基材层、剥离层、锚定层依次叠合而成。剥离层与锚定层采用差异化丙烯酸酯配方，剥离层不含磷酸酯改性丙烯酸酯，锚定层添加该组分以提升界面附着力，且剥离层的玻璃化转变温度、交联密度、储能模量均低于锚定层。同时，本申请采用分步UV预固化、主固化结合热退火的工艺制备产品。本申请利用双层梯度结构构建应力耗散体系，可将剥离力稳定控制在20～50g/25mm，高温高湿老化无残胶、无脱落，高温持粘力超48h，撕膜不会造成PMMA光学膜出现银纹、崩边等损伤，产品不含PFAS，适配各类PMMA光学制品防护使用。
天眼查资料显示，福州恒美光电材料有限公司，成立于2021年，位于福州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本130000万人民币。通过天眼查大数据分析，福州恒美光电材料有限公司参与招投标项目31次，专利信息43条，此外企业还拥有行政许可112个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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