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国家知识产权局信息显示，联影越质科学仪器（武汉）有限公司取得一项名为“离子源结构及质谱仪”的专利，授权公告号CN224637194U，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请涉及质谱仪技术领域，公开了一种离子源结构及质谱仪，离子源结构包括：第一腔体，所述第一腔体设置有毛细管入口、连通口和大气压接口，所述毛细管入口用于向所述第一腔体内的第一容纳腔导入带电离子；纠偏组件，所述纠偏组件与所述连通口相连通，所述纠偏组件用于向所述带电离子施加作用力，以使得所述带电离子进入所述大气压接口；本申请提供的离子源结构及质谱仪，用于改善现有技术中部分带电离子无法进入大气压接口，导致带电离子的损失率较高的问题。
天眼查资料显示，联影越质科学仪器（武汉）有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，联影越质科学仪器（武汉）有限公司专利信息16条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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