北京
国家知识产权局信息显示，天津华大九天科技有限公司申请一项名为“一种基于边框微孔阵列的参数化版图压缩方法”的专利，公开号CN122568856A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本申请提供一种基于边框微孔阵列的参数化版图压缩方法，应用于OLED、LCD、micro‑LED等显示面板技术领域的精细金属掩膜版（FMM）版图设计。所述方法，包括以下步骤：获取包含所有微孔坐标、边框层图形的原始版图，以及由用户指定的保留区域定义；微孔与边框层的重叠检测，过滤重叠微孔；基于保留区域的类型，动态调整保留区域；从动态调整后的保留区域中提取四周边框区域的微孔信息，并根据保留区域内的微孔布局定义周期性参数；对微孔分组进行完整性校验和修正；将保留的微孔和图形写入新创建的独立单元。本申请的方法，可使版图文件体积缩减90%以上，大幅提升了版图处理效率，加快版图导入/导出速度。
天眼查资料显示，天津华大九天科技有限公司，成立于2024年，位于天津市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。通过天眼查大数据分析，天津华大九天科技有限公司参与招投标项目11次，专利信息6条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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