北京
美光科技在纽约州克莱镇规划的半导体制造综合体再次被推上环境诉讼的风口浪尖。由“邻里争取更好的美光”和“就业驱动美国”两家组织共同提交的新起诉书指出，尽管美光已取得废水排放和空气排放许可，但这些许可的深度不够，无法阻止被称为“永久化学品”的PFAS流入奥奈达河。
起诉书明确写道，这些许可证是在项目环境影响评估（SEQRA）已经确认存在重大环境后果的背景下签发的，包括PFAS及其他高持久性、高危害化学品的释放。原告认为，纽约州环境保护部并未在最终授权前对后果进行充分且有意义的评估，也没有设定必要的保护措施，而是将重要的分析、控制、限制和缓解决策推迟到许可证签发之后，甚至等未来的法规和研究完成。
被告名单包括纽约州环境保护部、奥农多加县以及美光。原告的核心指控是，现有的废水排放和空气排放许可不足以约束工厂的实际排放。他们在诉状中称，这些许可并非“常规运营审批”，许可中的宽松指南也“不是附属性或技术性遗漏”。
PFAS（全氟和多氟烷基物质）是半导体制造中不可或缺的合成化学品，几乎贯穿整个制造链条，因此需要严格的水体和空气封闭管理来匹配环保法规。但起诉书指出，所获的SPDES许可虽授权接收和排放含有新兴污染物（包括PFAS化合物）的工业废水，却仅仅要求监测它们的存在和浓度，而未施加任何实质性控制。
这起诉讼并非孤例。今年一月份，同样是这两个原告就曾就同一项目提起诉讼，指控美光未能遵守纽约州的环境审查流程。上个月，美光请求法官驳回该诉讼，但这起案件仍定于8月25日进行口头辩论。而本次新提交的诉讼目前尚未确定口头辩论日期，原告正寻求撤销美光的废水排放和空气排放两项许可证。
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