国家知识产权局信息显示,东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请一项名为“SEM图像的对齐方法及相关产品”的专利,公开号CN122492768A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本发明提供了一种SEM图像的对齐方法及相关产品。对齐方法包括获取晶圆的设计版图,以及对晶圆进行采集得到的SEM图像;在SEM图像中确定出亮暗交替排列的多条亮条纹和暗条纹;在多条亮条纹中确定出目标亮条纹,并获取位于目标亮条纹两侧的预设宽度范围内各自的灰度变化趋势;基于灰度变化趋势,确定与目标亮条纹相邻的两暗条纹各自的轮廓类型;基于轮廓类型,将设计版图与SEM图像对齐。本方法能够在SEM图像中栅线图像和背景图像的灰度较为接近甚至相同的情况下,准确地提取SEM图像中栅线图像和背景图像的轮廓信息,提高了SEM图像与设计版图对齐效果。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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