国家知识产权局信息显示,湖北众韦光电科技有限公司取得一项名为“基于多激光同时激发的显微镜改装模块”的专利,授权公告号CN224569349U,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本实用新型公开了一种基于多激光同时激发的显微镜改装模块,改装模块包括收集模块、显微镜主体、模块支撑柱以及激发模块,其中,改装模块外部结构包括可调反射镜、分束镜、第一通光孔、第二通光孔、第三通光孔以及第四通光孔,激发模块包括第一光纤转接件、透镜、第一反射镜、前二向色镜、中二向色镜、后二向色镜以及反射镜组,收集模块内部结构包括第二光纤转接件、消色差透镜、第一滤光片、第二滤光片、第二反射镜以及收集二向色镜。综上,本基于多激光同时激发的显微镜改装模块可以实现深入了解材料内部微观结构与光学性能的关联并分析材料的成分分布及化学状态,此外,还可以进行双波段的光谱测试。
天眼查资料显示,湖北众韦光电科技有限公司,成立于2020年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1244.5241万人民币。通过天眼查大数据分析,湖北众韦光电科技有限公司参与招投标项目19次,财产线索方面有商标信息5条,专利信息21条,此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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