北京
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（来源：新型陶瓷）
近日，安徽四象半导体材料科技有限公司半导体部件总部生产基地项目建设取得重大进展，顺利突破“正负零”，正式从地下结构施工转入地上主体结构施工阶段。
该项目总投资7.5亿元，占地约40亩，总建筑面积约4.6万平方米。目前，各单体工程建设有序，单体地下室结构已全部完工，正开展地上主体结构施工。项目预计2026年底竣工投产，全面达产后，可实现年产27.6万片硅电极、硅环、碳化硅环、石英环等半导体关键部件，有力推动区域集成电路产业链补链强链。
刻蚀环又称聚焦环，是晶圆刻蚀制程不可或缺的核心耗材。在芯片加工环节，刻蚀环可均匀调控腔体内等离子体分布，保障晶圆整片与边缘刻蚀一致性，直接影响芯片最终生产良率。传统工艺多采用硅、石英材质刻蚀环，其中石英环多用于硅片刻蚀场景，能够密封工艺腔体、阻挡杂质污染；而硅电极作为刻蚀腔体核心元器件，负责构建等离子体电场，其原材料纯度、精密加工精度，直接决定刻蚀工艺稳定性与晶圆加工均匀度。
来源：合肥高新发布
伴随芯片制程持续微缩，刻蚀工艺在芯片制造中的权重与技术要求同步攀升，刻蚀设备等离子体功率、能量标准不断提升。尤其电容耦合式等离子刻蚀设备对高能等离子环境需求更高，碳化硅材质刻蚀环凭借优异耐蚀、耐高压性能，市场应用规模持续扩张。
安徽四象半导体成立于2022年4月，是聚焦先进半导体硅基精密耗材研发、生产、销售及配套服务的本土科创企业。公司长期深耕刻蚀核心部件赛道，自主突破高纯硅提纯、超高精度加工、碳化硅涂层制备等多项海外垄断的关键技术，从材料纯度、加工精度、产品使用寿命三大维度完成技术攻坚，可向刻蚀设备厂商供应高稳定、高精度核心耗材。
公司产品覆盖逻辑芯片、存储芯片、功率半导体等主流制造赛道，适配海内外全系列主流刻蚀设备，综合性能对标国际一线产品，良品率、长期稳定性处于国内行业领先水平，现已批量导入长鑫存储、长江存储等国内头部晶圆制造企业供应链，真正实现刻蚀核心零部件100%国产化替代，有效打破海外厂商长期技术与市场垄断。
与此同时，企业资本发展步伐持续提速，2026年已完成超2亿元A轮融资，充裕资金将持续反哺前沿材料研发与本次新基地产能扩建，进一步夯实国产半导体精密耗材自主供给能力。
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