北京
国家知识产权局信息显示，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司申请一项名为“半导体激光器件的制备方法、半导体激光器件及设备”的专利，公开号CN122436784A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本发明的实施例提供了一种半导体激光器件的制备方法、半导体激光器件及设备，涉及光芯片技术领域。本半导体激光器件包括多个发光点。每个发光点包括光栅层。多个发光点分为多组，不同组的发光点的光栅层具有相同的延伸方向但不同的蚀刻深度，以使各组的发光点出射不同的偏振态激光。本制备方法包括：形成覆盖所有发光点区域且具有相同延伸方向的光栅掩膜图形；基于所述光栅掩膜图形，通过k种刻蚀剂和t次刻蚀工艺，同步地对应N组发光点形成不同的光栅刻蚀深度。本发明能够在同一芯片上以低成本、高集成度、高效率的方式实现多种不同偏振态的出射光，且通过优化刻蚀剂种类和刻蚀次数，可显著减少工艺步骤。
天眼查资料显示，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司，成立于2017年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本39037.0798万人民币。通过天眼查大数据分析，度亘核芯光电技术（苏州）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目65次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息397条，此外企业还拥有行政许可17个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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