北京
国家知识产权局信息显示，江苏欧名欣半导体材料有限公司申请一项名为“一种用于光刻胶感度与工艺均匀性测试方法”的专利，公开号CN122386581A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明属于光刻胶研发生产及微纳加工技术领域，公开了一种用于光刻胶感度与工艺均匀性测试方法，包括：在硅片上涂覆光刻胶；将一无图形阶梯透光率菲林与掩模玻璃片组合模拟成掩模版，所述菲林上设有多个透光率测试阵列，每个阵列由多个透光率互不相同的无图形子单元构成，且不同阵列的子单元数量、排列方式及透光率序列完全相同；执行单次曝光使光线同时透过所有阵列；显影后测量各子单元对应的残余膜厚；针对同一透光率收集来自不同阵列的多个膜厚数据进行统计分析，绘制感度曲线并评估工艺均匀性。本发明通过单次曝光即可获得多组重复数据，具有高效、低成本、统计可靠性高、能同步评估工艺均匀性的优点。
天眼查资料显示，江苏欧名欣半导体材料有限公司，成立于2025年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1136.622万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏欧名欣半导体材料有限公司共对外投资了1家企业，财产线索方面有商标信息1条，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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