北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“利用神经网络和缺陷强度阈值化从扫描电子显微镜导出的深度映射图进行缺陷检测”的专利，公开号CN122374780A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本文描述了用于确定经图案化的衬底的结构的三维（3D）信息的基于机器学习的系统、方法和非暂态计算机可读介质。3D信息可以使用神经网络将二维图像转换为3D图像而被确定。在方法中，神经网络通过向样品的仿真图像供应变化的参数来训练，以对真实制造的IC结构进行建模。经训练的网络根据样品的新供应的图像生成深度映射图，以预测缺陷位置。深度映射图可以被转换为二值映射图，以预测缺陷尺寸和位置，缺陷尺寸和位置可以被用于使用检查工具来引导样品的检查。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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