北京
国家知识产权局信息显示，湖北倍思电子材料有限公司申请一项名为“高纯吡唑中痕金属离子超滤-捕杂协同除杂系统”的专利，公开号CN122352038A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种高纯吡唑痕量金属离子超滤‑捕杂协同除杂系统及方法，涉及电子化学品深度纯化技术领域，该方法首先构建基于空间位阻效应的超分子捕集模型，利用功能化离子液体的配位特异性，在等电势条件下诱导痕量金属离子组装成纳米级胶束团簇，解决传统纯化工艺中溶质损伤与离子反迁移污染问题；然后采用化学络合与物理筛分的双段协同机制，利用表面改性的亚微孔复合膜，在有机相体系中通过尺寸排阻效应实现杂质团簇的高效截留；最后，基于前馈‑反馈双闭环控制逻辑进行动态压差补偿与品质自判定，输出具备高纯度保障的净化液与干预策略，本发明有效提升了除杂过程的选择性与稳定性，实现了电子级吡唑的超纯化制备。
天眼查资料显示，湖北倍思电子材料有限公司，成立于2018年，位于荆州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北倍思电子材料有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目3次，专利信息20条，此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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