北京
国家知识产权局信息显示，成都路维光电有限公司申请一项名为“一种检测掩膜版水渍和药残的方法及系统”的专利，公开号CN122347709A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明公开了一种检测掩膜版水渍和药残的方法及系统，涉及掩膜版缺陷检测领域，解决了目前在检测掩膜版的水渍、药残时检测精度不足的问题，其技术方案要点是：采集掩膜版的图像数据；对所述图像数据进行光亮标定，得到亮度校正图像；对所述亮度校正图像进行同态滤波，以压缩所述亮度校正图像的亮度范围和增强所述亮度校正图像的对比度，得到增强图像；对所述增强图像进行双边滤波，以去除所述增强图像的干扰噪声和保留所述增强图像的边缘特征值，得到结果图像；采用预设的AOI逻辑算法对所述结果图像进行缺陷判定，得到可能存在水渍和药残的缺陷区域；对所述缺陷区域进行缺陷复检，输出水渍和药残的缺陷检测结果。
天眼查资料显示，成都路维光电有限公司，成立于2017年，位于成都市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本34500万人民币。通过天眼查大数据分析，成都路维光电有限公司参与招投标项目9次，专利信息77条，此外企业还拥有行政许可95个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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