北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“基于激光驱动等离子体的EUV产生系统”的专利，公开号CN122319732A，申请日期为2024年11月。
专利摘要显示，一种基于激光驱动等离子体LPP的EUV产生系统被配置为通过利用至少一个激光束辐照目标材料的液滴来产生EUV光。该系统包括量测模块，该量测模块被配置为通过将正向束的一部分与从目标材料反射离开的反向束的一部分进行比较来确定目标材料的液滴的位置。该量测模块包括：依赖于偏振状态的束拾取器，其被布置成依赖于偏振状态从正向束和反向束分离一部分；以及偏振状态调整器，其被布置成相比于所述依赖于偏振状态的束拾取器位于束路径的下游，该偏振状态调整器被布置成改变正向束和反向束中的至少一者的偏振状态，使得入射在依赖于偏振状态的束拾取器处的正向束的偏振状态和反向束的偏振状态不同。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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