北京
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国家知识产权局信息显示，恩特格里斯公司申请一项名为“用于半导体制造工艺的清洁刷”的专利，公开号CN122294877A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，提供一种用于半导体制造工艺的清洁刷。所述清洁刷包含芯及刷部件。所述芯包含圆周部分及闭端部分。所述圆周部分包围所述清洁刷的旋转轴线且界定用于接收流体的入口开口。所述闭端部分经连接到沿所述旋转轴线与所述入口开口相对的所述圆周部分的端。至少一个细长导管经界定于所述芯内且与所述入口开口流体连通，且所述圆周部分包含穿过其以与所述细长导管流体连通的多个出口通道，所述出口通道朝向所述闭端部分向外倾斜。所述刷部件经连接到所述圆周部分的外表面且覆盖所有所述出口通道。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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