北京
国家知识产权局信息显示，武汉辰光辉天科技有限公司取得一项名为“一种MPCVD密封结构”的专利，授权公告号CN224411903U，申请日期为2025年5月。
专利摘要显示，本实用新型涉及一种MPCVD密封结构，属于MPCVD设备技术领域，包括用于对MPCVD机体进行保护的保护结构，所述MPCVD机体包括反应腔体、波导腔体、设置于反应腔体内部并贯穿波导腔体内部的连杆，所述波导腔体的上方设置有数量为两个的连接盘，两个所述连接盘之间固定有调节弹簧；所述保护结构包括设置于两个连接盘之间的底座，所述底座数量为两个，两个所述底座内部均可拆卸安装有连接块，两个所述连接块之间固定有对调节弹簧进行保护的伸缩保护套。该MPCVD密封结构，通过上下两个底座和可拆卸连接块固定，再通过伸缩保护套完全包裹调节弹簧，防止腐蚀性气体、颗粒物直接接触弹簧表面，实现对调节弹簧的物理隔离。
天眼查资料显示，武汉辰光辉天科技有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉辰光辉天科技有限公司参与招投标项目27次，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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