北京
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国家知识产权局信息显示，生捷科技控股公司申请一项名为“在基材提高光化学反应的效率”的专利，公开号CN122252120A，申请日期为2019年5月。
专利摘要显示，本文公开了一种基材及其溶剂膜，该基材包括用共价连接至该基材的光不稳定基团保护的官能团，该溶剂膜覆盖该基材，其中膜的厚度小于约100 µm。本文还公开了制备此类基材的方法。还公开了合成聚合物的方法、合成聚合物阵列的方法以及去除光不稳定保护基团的方法。这些方法均采用溶剂薄膜覆盖基材，其中膜的厚度小于100 µm。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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